日企开发出1/10电量制造1.4纳米半导体的技术 - FT中文网
登录×
电子邮件/用户名
密码
记住我
请输入邮箱和密码进行绑定操作:
请输入手机号码,通过短信验证(目前仅支持中国大陆地区的手机号):
请您阅读我们的用户注册协议隐私权保护政策,点击下方按钮即视为您接受。
日经中文网精选

日企开发出1/10电量制造1.4纳米半导体的技术

佳能的“纳米压印(Nanoimprint )”制造装置采用类似盖印章的方式在晶圆上制作电路。

大日本印刷(DNP)开发出了能以十分之一的耗电量生产先进半导体的技术。将面向佳能生产的新方式制造装置,于2027年量产可支持新一代1.4纳米(1纳米为十亿分之一米)产品的核心构件。人工智能(AI)半导体的制造成本有大幅降低的可能性。

目前,要量产最先进的半导体,需要使用全球只有荷兰阿斯麦控股(ASML Holdings)生产的极紫外(EUV)光刻机。在晶圆(基板)上绘制电路的“光刻工序”占半导体总制造成本的3至5成。电路越精细,光刻次数就越多,耗电量也随之增加。一台EUV光刻机的价格为300亿日元左右,给半导体厂商带来沉重的投资负担。

而佳能的“纳米压印(Nanoimprint )”制造装置采用类似盖印章的方式在晶圆上制作电路。DNP开发出了相当于精细印章的电路原版“模板(template)” ,最高可用于1.4纳米制程。此前该技术无法支持2纳米等先进半导体的制造。

继续阅读请点击这里,进入日经中文网

日本经济新闻社与金融时报2015年11月合并成为同一家媒体集团。同样于19世纪创刊的日本和英国的两家报社形成的同盟正以“高品质、最强大的经济新闻学”为旗帜,推进共同特辑等广泛领域的协作。此次,作为其中的一环,两家报社的中文网之间实现文章互换。

版权声明:本文版权归FT中文网所有,未经允许任何单位或个人不得转载,复制或以任何其他方式使用本文全部或部分,侵权必究。

美国数据中心引发的巨大分歧

美国许多农村社区对AI基础设施本能地抵触,这使它们与白宫立场相左。

咖啡、燃料与住房:特朗普面临通胀难题

美国总统在伊朗发动的战争加剧了美国的生活成本危机。

伊朗强硬派就对美谈判问题爆发内斗

尽管该政权领导层极力展示团结,但议员们在有关德黑兰核计划的谈判问题上已产生严重分歧。

伊朗战争表明拉丁美洲的原罪已成过去

莫伊内斯:过去30年里,每次石油冲击都会击垮拉丁美洲的债券,但这一次却没有。

本田:当“梦想的力量”开始失灵

昔日日本工业界才气横溢、富于冒险精神的灯塔,如今却步履踉跄。

前阿波罗风控主管警告新兴寿险公司风险

查克•拉古纳坦指出,一些较新的寿险公司高度依赖私募信贷以及易遭提款冲击的新型储蓄产品。
设置字号×
最小
较小
默认
较大
最大
分享×